近年來，《中國制造2025》、《“十三五”國家戰(zhàn)略性新興產業(yè)發(fā)展規(guī)劃》、《關于集成電路生產企業(yè)有關企業(yè)所得稅政策問題的通知》等政策扶持，我國超大規(guī)模集成電路、液晶顯示器件、非晶硅薄膜太陽能電池等產業(yè)迅速發(fā)展。同時，含氟特種電子氣體伴隨這些行業(yè)的高速發(fā)展增長亦十分可觀。

常用的含氟特種電子氣體有六氟化硫(sf6)、六氟化鎢(WF6)、四氟化碳(CF4)、三氟甲烷(CHF3)、三氟化氮(NF3)、六氟乙烷(C2F6)和八氟丙烷(C3F8)等。

三氟化氮（NF3）作為含氟特種氣體的一類，是市場容量最大的電子特種氣體產品，其常溫下具有化學惰性，高溫下則比氧氣更活潑、比氟更穩(wěn)定，且易于處理。

三氟化氮主要用作等離子蝕刻氣體和反應腔清洗劑，適用于半導體芯片、平板顯示器、光纖、光伏電池等制造領域。

和其他含氟電子氣體相比，三氟化氮具有反應快、效率高的優(yōu)點，尤其在對氮化硅等含硅材質的蝕刻中，具有較高的蝕刻速率和選擇性，在被蝕刻物表面不留任何殘留物，同時也是非常良好的清洗劑，而且對表面無污染，能夠滿足加工過程需求。

氟化氮的主要生產工藝有化學法和熔鹽電解法。其中化學合成法安全性高，但具有設備復雜、雜質含量多的缺點；電解法更容易得到高純度產品，但存在一定的浪費和污染。

目前，日本與國內生產高純三氟化氮的廠家大多采用NH4H氟氣熔融鹽電解法，而歐美國家則一般采用直接化合法。

隨著半導體、顯示面板行業(yè)生產及消費重心逐漸向中國大陸轉移，加上主要原料均由國內供給，兩頭在內的產業(yè)鏈格局決定了三氟化氮生產應用向國內轉移是大勢所趨。

我國半導體產業(yè)和面板產業(yè)維持較高的景氣度，三氟化氮作為面板、半導體生產加工過程中必不可少、且用量最大的特種電子氣體，具有廣闊的市場空間。

根據數據顯示，2019年全球和中國的三氟化氮需求量分別為3.1和1.1萬噸，分別同比增長10%和40%。從市場競爭格局來看，長期以來，三氟化氮的生產和銷售廠家集中在美國、韓國、日本等國外幾家氣體公司。其優(yōu)勢為產能大、品種齊全，劣勢在于原材料均由中國國內采購，生產成本和運輸成本比較高。

由于生產NF3氣體的主要原料大部由國內供給，且半導體產業(yè)生產和消費中心向中國大陸轉移，決定了NF3未來生產向中國大陸轉移的趨勢。隨著國內市場需求的增加和國產化率的提升，頭部企業(yè)的市占率有望得到進一步提升。